Journal
/
/
אפיון מקיף של פגמים מורחבים סמיקונדקטור חומרים על ידי מיקרוסקופ סורק האלקטרוני
JoVE Journal
Engineering
This content is Free Access.
JoVE Journal Engineering
Comprehensive Characterization of Extended Defects in Semiconductor Materials by a Scanning Electron Microscope

אפיון מקיף של פגמים מורחבים סמיקונדקטור חומרים על ידי מיקרוסקופ סורק האלקטרוני

13,236 Views

11:14 min

May 28, 2016

DOI:

11:14 min
May 28, 2016

14 Views
, , , , , ,

Summary

Automatically generated

The optical, electrical, and structural properties of dislocations and of grain boundaries in semiconductor materials can be determined by experiments performed in a scanning electron microscope. Electron microscopy has been used to investigate cathodoluminescence, electron beam induced current, and diffraction of backscattered electrons.

Read Article