/
/
Uso de sacrificiais nanopartículas para eliminar os efeitos do Plano de ruído em contato Buracos fabricada por E-beam litografia
A subscription to JoVE is required to view this content. Sign in or start your free trial.
7,127 Views
•
07:47 min
•
February 12, 2017
DOI:
Summary
Automatically generated
Uniformemente nanopartículas porte pode remover flutuações nas dimensões Contacto Furo estampados em poli (metacrilato de metila) filmes (PMMA) fotossensíveis por feixe de elétrons (E-beam) litografia. O processo envolve afunilamento eletrostática para centro e depósito de nanopartículas em furos de contacto, seguido por refluxo fotorresiste e passos plasma e wet-gravura.
Read Article
Cite this Article
Rananavare, S. B., Morakinyo, M. K. Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography. J. Vis. Exp. (120), e54551, doi:10.3791/54551 (2017).
Copy