Journal
/
Engineering
/
犠牲ナノ粒子の使用は、電子ビームリソグラフィにより作製したコンタクトホール内にショットノイズの影響を除去します
JoVE Journal
Engineering
A subscription to JoVE is required to view this content.  Sign in or start your free trial.
JoVE Journal Engineering
Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography
Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.

犠牲ナノ粒子の使用は、電子ビームリソグラフィにより作製したコンタクトホール内にショットノイズの影響を除去します

日本語

Automatically Generated

7,127 Views

•

07:47 min

•

February 12, 2017

DOI:

10.3791/54551-v

DOI:
10.3791/54551-v

•

07:47 min
February 12, 2017

•

6 Views
,
1Department of Chemistry,Portland State University, 2Logic Technology Department,Intel Corporation

Summary

Automatically generated

均一なサイズのナノ粒子は、電子ビーム（Eビーム）リソグラフィによりポリパターニングコンタクトホール寸法の変動（メチルメタクリレート）（PMMA）フォトレジスト膜を除去することができます。プロセスは、フォトレジストのリフロー及びプラズマ・湿式エッチング工程に続いて、コンタクトホール内にナノ粒子を中心と堆積する静漏斗を含みます。

Explore More Videos

Sacrificial NanoparticlesShot-noiseE-beam LithographyContact HolesSub-20 Nanometer PatternsRCA CleaningAATMSPMMAGold NanoparticlesEvaporation

Read Article

Cite this Article

Rananavare, S. B., Morakinyo, M. K. Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography. J. Vis. Exp. (120), e54551, doi:10.3791/54551 (2017).

Download .ris file

Copy

Share Video

.

Copy