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Micropunching litografía para la generación de microempresas y patrones de submicrónicas de sustratos poliméricos
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Micropunching litografía para la generación de microempresas y patrones de submicrónicas de sustratos poliméricos
Bölümler
- 00:05Başlık
- 01:05Cutting Operation in MPL: Overview and Initial Steps
- 01:57Cutting Operation in MPL: Single-layer Microstructures on a Substrate
- 02:36Cutting Operation in MPL: Multi-layer Microstructures on a Substrate
- 04:44Drawing Operation in MPL: Making PDMS Micropillars on HDPE Channel Sidewalls
- 06:25Microstructures Formed by Cutting and Drawing, and Their Application
- 09:00Conclusion
Un enfoque litografía micropunching se ha desarrollado para generar micro y submicrónicas patrones de en la parte superior, lateral y las superficies inferiores de substratos de polímeros. Supera los obstáculos de los patrones de polímeros conductores y la generación de los patrones de las paredes laterales. Este método permite una fabricación rápida de características múltiples y está libre de la química agresiva.
Etiketler
Micropunching LithographyGenerating Micro- And Submicron-patternsPolymer SubstratesConducting PolymersLithographic TechniquesTechnical ChallengesPhotolithographic MethodsWet EtchingDry EtchingMicro/nanosystemsPlanar FormSidewall Patterns3-D CircuitsFluidic ChannelsHorizontal Growth Of Nanowires And NanotubesMacropunching Method
