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July 02, 2012
DOI:
10.3791/3725-v
开发一个micropunching光刻方法产生微观和亚微米图案,顶部,侧壁和底部表面的聚合物基板。它克服了图案化导电聚合物和产生侧壁模式的障碍。这种方法允许多个功能快速制作和侵略性的化学自由。
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Chakraborty, A., Liu, X., Luo, C. Micropunching Lithography for Generating Micro- and Submicron-patterns on Polymer Substrates. J. Vis. Exp. (65), e3725, doi:10.3791/3725 (2012).
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