Journal
/
/
Dielectric Metasturfaces tarafından eşit yoğunluklu ışın üretimi gösterimi
JoVE Journal
Engineering
A subscription to JoVE is required to view this content.  Sign in or start your free trial.
JoVE Journal Engineering
Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces
DOI:

09:33 min

June 07, 2019

, ,

Chapters

  • 00:04Title
  • 00:52Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
  • 01:35Formation of the Chromium Etching Mask
  • 06:53Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon
  • 07:41Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent
  • 08:31Conclusion

Summary

Automatic Translation

Dielektrik metasürlerin imalat ve optik karakterizasyonu için bir protokol sunulmuştur. Bu yöntem sadece kiriş ayırıcılar değil, aynı zamanda lensler, hologramlar ve optik pelerinleri gibi genel dielektrik metasürfaces, imalat uygulanabilir.

Related Videos

Read Article