Journal
/
Engineering
/
Demonstratie van gelijke-intensiteit Beam generatie door diëlektrische meta vlakken
JoVE Journal
Engineering
A subscription to JoVE is required to view this content.  Sign in or start your free trial.
JoVE Journal Engineering
Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces
Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.

Demonstratie van gelijke-intensiteit Beam generatie door diëlektrische meta vlakken

DOI:
10.3791/59066-v

•

09:33 min

•

June 07, 2019

•

, ,
1Department of Mechanical Engineering,Pohang University of Science and Technology (POSTECH), 2Department of Chemical Engineering,Pohang University of Science and Technology (POSTECH), 3National Institute of Nanomaterials Technology (NINT)

Chapters

  • 00:04Title
  • 00:52Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
  • 01:35Formation of the Chromium Etching Mask
  • 06:53Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon
  • 07:41Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent
  • 08:31Conclusion

Summary

Automatic Translation

Automatic Translation

Een protocol voor de fabricage en optische karakterisering van diëlektrische metareeksen wordt gepresenteerd. Deze methode kan worden toegepast op de vervaardiging van niet alleen beam splitters, maar ook van algemene diëlektrische Metasequoia, zoals lenzen, hologrammen, en optische cloaks.

Tags

Metasurface FabricationDielectric MetasurfaceEqual-intensity Beam GenerationPECVDPMMAElectron Beam LithographySilicon Photonics

Article

Embed

ADD TO PLAYLIST

Usage Statistics

Related Videos

Moleculaire Beam massaspectrometrie met afstelbare Vacuum Ultraviolet (VUV) Synchrotron Radiation

De voorbereiding van elektrohydrodynamische Bruggen van Polar diëlektrische vloeistoffen

Speciatie en biologische beschikbaarheid Metingen van Milieu Plutonium gebruik van Diffusion in Thin Films

Fabricageproces van siliconen gebaseerde diëlektrische Elastomer Actuators

Het gebruik van Offer Nanodeeltjes te verwijderen van de effecten van Shot-noise in contact Gaten vervaardigd door E-lithografie

Optische val Laden van diëlektrische micropartikels in Air

Diëlektrische RheoSANS - Gelijktijdige Ondervraging van de impedantie, Reologie Lage hoek neutronenverstrooiing of Complex Fluids

Demonstratie van een Hyperlens-geïntegreerd Microscoop en super resolutie beeldvorming

Fabricage van Schottky Diodes op Zn-polaire BeMgZnO/ZnO Heterostructure gegroeid door moleculaire Beam Plasma-bijgewoonde epitaxie

Voorbereiding van een Isotopisch zuivere 229e Ion Beam voor studies van 229mth

Read Article