Journal
/
Engineering
/
Демонстрация поколения равной интенсивности луча диэлектрическими метаповерхностями
JoVE Journal
Engineering
A subscription to JoVE is required to view this content.  Sign in or start your free trial.
JoVE Journal Engineering
Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces
Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.

Демонстрация поколения равной интенсивности луча диэлектрическими метаповерхностями

DOI:
10.3791/59066-v

•

09:33 min

•

June 07, 2019

•

, ,
1Department of Mechanical Engineering,Pohang University of Science and Technology (POSTECH), 2Department of Chemical Engineering,Pohang University of Science and Technology (POSTECH), 3National Institute of Nanomaterials Technology (NINT)

Chapters

  • 00:04Title
  • 00:52Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
  • 01:35Formation of the Chromium Etching Mask
  • 06:53Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon
  • 07:41Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent
  • 08:31Conclusion

Summary

Automatic Translation

Automatic Translation

Представлен протокол изготовления и оптической характеристики диэлектрических метаповерхностей. Этот метод может быть применен к изготовлению не только пучковых сплиттеров, но и общих диэлектрических метаповерхностей, таких как линзы, голограммы и оптические плащи.

Tags

Metasurface FabricationDielectric MetasurfaceEqual-intensity Beam GenerationPECVDPMMAElectron Beam LithographySilicon Photonics

Article

Embed

ADD TO PLAYLIST

Usage Statistics

Related Videos

Молекулярная масс-спектрометрии ширина с перестраиваемой вакуумного ультрафиолетового (ВУФ) синхротронного излучения

Подготовка Электрогидродинамические Мосты от полярных диэлектрических жидкостей

Видообразования и биодоступности Измерения окружающей среды плутонием диффузия в тонких пленках

Изготовление Процесс силиконовой основе диэлектрических эластомеров приводов

Использование жертвенной наночастицами для устранения эффекта дробового шума в контактных отверстий сфабриковано E-лучевую литографию

Оптическая ловушка Загрузка Диэлектрические микрочастицами In Air

Диэлектрические RheoSANS - Одновременная Допрос импеданса, реология и малого угол рассеяния нейтронов сложных жидкостей

Демонстрация Hyperlens интегрированы микроскопа и супер-резолюции изображений

Производство диодов Шоттки на Zn Полярный BeMgZnO/ZnO гетероструктуры, выращенных при содействии плазмы Молекулярно-пучковая эпитаксия

Подготовка изотопно Чистый 229Th Ion Луч для исследований 229mTh

Read Article