'Dergi'
/
/
ضوء المحسن حمض الهيدروفلوريك التخميل: تقنية حساسة للكشف عن العيوب السيليكون السائبة
JoVE Journal
Mühendislik
'Bu içeriği görüntülemek için JoVE aboneliği gereklidir.'  'Oturum açın veya ücretsiz deneme sürümünü başlatın.'
JoVE Journal Mühendislik
Light Enhanced Hydrofluoric Acid Passivation: A Sensitive Technique for Detecting Bulk Silicon Defects
DOI:

09:15 min

January 04, 2016

'Bölümler'

  • 00:05'Başlık'
  • 01:02Cleaning and Etching the Silicon Wafers
  • 04:08Silicon Wafer Passivation and Photoconductive (PC) Measurement
  • 07:08Results: Silicon Wafer Photoconductive Measurement after Surface Passivation
  • 08:10Conclusion

Özet

'Otomatik Çeviri'

ووصف RT سطح السائل تقنية التخميل للتحقيق في نشاط إعادة التركيب من العيوب السيليكون السائبة. لهذه التقنية لتكون ناجحة، هناك حاجة إلى ثلاث خطوات حاسمة: (ط) التنظيف الكيميائية والنقش من السيليكون، (ب) الغمر من السيليكون في حمض الهيدروفلوريك 15٪ و (ج) الإضاءة لمدة 1 دقيقة.

'İlgili Videolar'

Read Article