/
/
Селективный Площадь Модификация поверхности кремния смачиваемости импульсным УФ лазерного облучения в жидкой среде
A subscription to JoVE is required to view this content. Sign in or start your free trial.
8,126 Views
•
08:48 min
•
November 09, 2015
DOI:
Summary
Automatically generated
Мы сообщаем о процессе в Ситу изменение HF лечение Si (001) в гидрофильной или гидрофобной государства путем облучения образцов в микрофлюидных камерах, наполненных H 2 O 2 / H 2 O раствор (0,01% -0,5%) или метанол решения с помощью импульсного УФ лазер относительно низкой плотности энергии импульса.
Read Article
Cite this Article
Liu, N., Moumanis, K., Dubowski, J. J. Selective Area Modification of Silicon Surface Wettability by Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment. J. Vis. Exp. (105), e52720, doi:10.3791/52720 (2015).
Copy