Journal
/
/
Selectieve Area Wijziging van Silicon Surface Bevochtigbaarheid door Pulsed UV Laser bestraling in Liquid Milieu
JoVE Journal
Engineering
A subscription to JoVE is required to view this content.  Sign in or start your free trial.
JoVE Journal Engineering
Selective Area Modification of Silicon Surface Wettability by Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment
DOI:

08:48 min

November 09, 2015

, ,

Chapters

  • 00:05Title
  • 01:24Sample Preparation
  • 02:16Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment
  • 03:18Immobilization of Bio-conjugated Nanospheres
  • 03:56Contact Angle Measurement
  • 05:05XPS Measurement
  • 05:52Results: Pulsed UV Laser Irradiation Increases SiOH Surface Concentration
  • 07:10Conclusion

Summary

Automatic Translation

We rapporteren op een werkwijze in situ verandering van HF behandelde Si (001) oppervlak in een hydrofiel of hydrofoob toestand door bestralen monsters microfluïdische kamers gevuld met H 2 O 2 / H2O-oplossing (0,01% -0,5%) en methanol oplossingen met behulp van UV-gepulste laser van een relatief lage hartslag Fluence.

Related Videos

Read Article