A subscription to JoVE is required to view this content. Sign in or start your free trial.
15,936 Views
•
07:51 min
•
July 02, 2012
DOI:
Summary
Automatically generated
Wir beschreiben die Verwendung von einem Kohlendioxid-Laser-Reflow-Verfahren zu Siliciumdioxid Resonanzhohlräume, einschließlich freistehenden Mikrokügelchen und On-Chip Mikrotoroide herzustellen. Der Reflow-Methode entfernt Unebenheiten, so dass lange Photonenlebensdauern innerhalb der beiden Geräte. Die daraus resultierenden Geräte verfügen über extrem hohe Güten und ermöglicht Anwendungen, die von der Telekommunikation bis Biodetektion.
Explore More Videos
FabricationSilicaUltra High Quality FactorMicroresonatorsWhispering Gallery Resonant CavitiesPhoton Storage LifetimeQuality Factor (Q)Material LossesSilica MicrocavitiesPhoton LifetimesUltra-low-threshold MicrolasersThin FilmsCavity Quantum Electrodynamics StudiesMicrosphereMicrotoroidCarbon Dioxide Laser Reflow StepOptical FiberSilicon WaferLithographyEtching Steps
Read Article
Cite this Article
Maker, A. J., Armani, A. M. Fabrication of Silica Ultra High Quality Factor Microresonators. J. Vis. Exp. (65), e4164, doi:10.3791/4164 (2012).
Copy