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July 02, 2012
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Wir beschreiben die Verwendung von einem Kohlendioxid-Laser-Reflow-Verfahren zu Siliciumdioxid Resonanzhohlräume, einschließlich freistehenden Mikrokügelchen und On-Chip Mikrotoroide herzustellen. Der Reflow-Methode entfernt Unebenheiten, so dass lange Photonenlebensdauern innerhalb der beiden Geräte. Die daraus resultierenden Geräte verfügen über extrem hohe Güten und ermöglicht Anwendungen, die von der Telekommunikation bis Biodetektion.
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FabricationSilicaUltra High Quality FactorMicroresonatorsWhispering Gallery Resonant CavitiesPhoton Storage LifetimeQuality Factor (Q)Material LossesSilica MicrocavitiesPhoton LifetimesUltra-low-threshold MicrolasersThin FilmsCavity Quantum Electrodynamics StudiesMicrosphereMicrotoroidCarbon Dioxide Laser Reflow StepOptical FiberSilicon WaferLithographyEtching Steps
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Maker, A. J., Armani, A. M. Fabrication of Silica Ultra High Quality Factor Microresonators. J. Vis. Exp. (65), e4164, doi:10.3791/4164 (2012).
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