A subscription to JoVE is required to view this content. Sign in or start your free trial.
15,943 Views
•
07:51 min
•
July 02, 2012
DOI:
Summary
Automatically generated
وصفنا في استخدام تقنية ليزر ثاني أكسيد الكربون إنحسر الى افتعال تجاويف السيليكا الرنانة، بما في ذلك قائمة بذاتها المجهرية وmicrotoroids على الرقاقة. طريقة إنحسر يزيل العيوب السطحية، مما يسمح للأعمار الفوتون طويلة داخل كلا الجهازين. الأجهزة الناتجة لديها من العوامل ذات جودة عالية جدا، وتمكين التطبيقات التي تتراوح بين الاتصالات السلكية واللاسلكية إلى biodetection.
Explore More Videos
FabricationSilicaUltra High Quality FactorMicroresonatorsWhispering Gallery Resonant CavitiesPhoton Storage LifetimeQuality Factor (Q)Material LossesSilica MicrocavitiesPhoton LifetimesUltra-low-threshold MicrolasersThin FilmsCavity Quantum Electrodynamics StudiesMicrosphereMicrotoroidCarbon Dioxide Laser Reflow StepOptical FiberSilicon WaferLithographyEtching Steps
Read Article
Cite this Article
Maker, A. J., Armani, A. M. Fabrication of Silica Ultra High Quality Factor Microresonators. J. Vis. Exp. (65), e4164, doi:10.3791/4164 (2012).
Copy