/
/
الطباعة النانوية الكهروكيميائية بمساعدة المعادن لرقائق السيليكون المسامية والصلبة
É necessária uma assinatura da JoVE para visualizar este conteúdo. Faça login ou comece sua avaliação gratuita.
الطباعة النانوية الكهروكيميائية بمساعدة المعادن لرقائق السيليكون المسامية والصلبة
3,725 Views
•
09:18 min
•
February 08, 2022
DOI:
Summary
Automatically generated
يتم تقديم بروتوكول للطباعة الكيميائية بمساعدة المعادن لميزات microscale 3D بدقة شكل أقل من 20 نانومتر في رقائق السيليكون الصلبة والمسامية.
Explore More Videos
Metal-assisted Electrochemical NanoimprintingPorous SiliconSolid SiliconHierarchical MicrostructuresMetasurface-based Microoptic ElementsWaveguide TechnologiesOptical BiosensorsInfrared Optical DevicesIII-V SemiconductorsStamp To Substrate Tip And Tilt AlignmentRCA-1 SolutionPFOCSPDMSUV Nanoimprinting
Read Article
Cite this Article
Sharstniou, A., Niauzorau, S., Junghare, A., Azeredo, B. P. Metal-Assisted Electrochemical Nanoimprinting of Porous and Solid Silicon Wafers. J. Vis. Exp. (180), e61040, doi:10.3791/61040 (2022).
Copy