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JoVE 신문 화학
Fabricating Nanogaps by Nanoskiving
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Nanoskiving으로 Nanogaps을 제조

DOI:
10.3791/50406-v

•

07:36 min

•

May 13, 2013

•

,
1Stratingh Institute for Chemistry and Zernike Institute for Advanced Materials,University of Groningen

Chapters

  • 00:05Title
  • 01:13Preparation of a Block for Sectioning: Self-assembled Monolayers
  • 04:12Sectioning to Produce Nanogap Structures
  • 05:35Preparation for Electrical Measurements of Self-assembled Monolayer Samples
  • 06:00Results: Images and Electrical Measurements for Nanogaps below 5 nm
  • 07:15Conclusion

Summary

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전기적 주소, 높은 종횡비 (> 1000:1)의 제작은 템플릿으로 희생 알루미늄과 은색의 레이어 또는 자기 조립 단일 층을 사용하여 단일 나노 미터의 간격으로 구분하여 금속 나노 와이어가 설명되어 있습니다. 이 nanogap 구조는 nanoskiving로 알려진 첨단 리소그래피의 형태로 클린 룸 또는 사진이나 전자빔 리소그래피 공정없이 제작되어 있습니다.

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NanogapsNanoskivingEdge LithographyNanofabricationSacrificial LayerSelf-assembled MonolayersElectrically AddressableDimensional ControlMechanical Fabrication

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