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Micropunching litografia per la generazione di Micro-e submicroniche modelli sul Polymer Substrati
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Micropunching litografia per la generazione di Micro-e submicroniche modelli sul Polymer Substrati
Capitoli
- 00:05Titolo
- 01:05Cutting Operation in MPL: Overview and Initial Steps
- 01:57Cutting Operation in MPL: Single-layer Microstructures on a Substrate
- 02:36Cutting Operation in MPL: Multi-layer Microstructures on a Substrate
- 04:44Drawing Operation in MPL: Making PDMS Micropillars on HDPE Channel Sidewalls
- 06:25Microstructures Formed by Cutting and Drawing, and Their Application
- 09:00Conclusion
Un approccio litografia micropunching è sviluppato per generare micro-e submicroniche modelli sopra, fianchi e superfici di fondo di polimero substrati. Esso supera gli ostacoli patterning di polimeri conduttori e generare modelli laterali. Questo metodo permette una rapida realizzazione di funzioni multiple ed è libero di chimica aggressiva.
Tags
Micropunching LithographyGenerating Micro- And Submicron-patternsPolymer SubstratesConducting PolymersLithographic TechniquesTechnical ChallengesPhotolithographic MethodsWet EtchingDry EtchingMicro/nanosystemsPlanar FormSidewall Patterns3-D CircuitsFluidic ChannelsHorizontal Growth Of Nanowires And NanotubesMacropunching Method
