9,780 Views
•
10:25 min
•
September 14, 2018
DOI:
Summary
Automatically generated
Мы используем аберрация исправлениями сканирования просвечивающий электронный микроскоп для определения шаблонов однозначным нанометров в двух широко используется электронно лучевые сопротивляется: поли (метилметакрилат) и водорода силсесквиоксанов. Противостоять шаблоны могут быть реплицированы в целевой материалы по выбору с верностью однозначным нанометр с помощью liftoff, плазменного травления и сопротивляться проникновению синтезированы.
Read Article
Cite this Article
Camino, F. E., Manfrinato, V. R., Stein, A., Zhang, L., Lu, M., Stach, E. A., Black, C. T. Single-Digit Nanometer Electron-Beam Lithography with an Aberration-Corrected Scanning Transmission Electron Microscope. J. Vis. Exp. (139), e58272, doi:10.3791/58272 (2018).
Copy