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March 07, 2014
DOI:
1Centre for Integrative Physiology, School of Biomedical Sciences,The University of Edinburgh, 2Edinburgh Cancer Research Centre, Institute of Genetics and Molecular Medicine,Western General Hospital, 3School of Engineering, Institute for Integrated Micro and Nano Systems,The University of Edinburgh
Summary
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このプロトコルは、SiO 2のセルパターニングのための微細加工と互換性のある方法を記載している。事前に定義されたパリレン-Cの設計は、フォトリソグラフィによってSiO 2のウェハ上に印刷されています。血清（または他の活性化溶液）とのインキュベーション後の細胞を特異的に接着し（との適合性に応じて成長する）はSiO 2領域によって撃退されながら、基礎となるパリレン-C、。
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Hughes, M. A., Brennan, P. M., Bunting, A. S., Shipston, M. J., Murray, A. F. Cell Patterning on Photolithographically Defined Parylene-C: SiO2 Substrates. J. Vis. Exp. (85), e50929, doi:10.3791/50929 (2014).
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