Summary

Microscopía de fuerza atómica de sonda activa con matrices en voladizo cuatór-paralelas para la inspección de muestras a gran escala de alto rendimiento

Published: June 13, 2023
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Summary

La inspección de muestras a gran escala con resolución a nanoescala tiene una amplia gama de aplicaciones, especialmente para obleas semiconductoras nanofabricadas. Los microscopios de fuerza atómica pueden ser una gran herramienta para este propósito, pero están limitados por su velocidad de imagen. Este trabajo utiliza matrices de voladizos activos paralelos en AFM para permitir inspecciones de alto rendimiento y a gran escala.

Abstract

Un microscopio de fuerza atómica (AFM) es una herramienta potente y versátil para estudios de superficie a nanoescala con el fin de capturar imágenes topográficas en 3D de muestras. Sin embargo, debido a su limitado rendimiento de imágenes, los AFM no se han adoptado ampliamente para fines de inspección a gran escala. Los investigadores han desarrollado sistemas AFM de alta velocidad para grabar vídeos de procesos dinámicos en reacciones químicas y biológicas a decenas de fotogramas por segundo, a costa de una pequeña área de imagen de hasta varios micrómetros cuadrados. Por el contrario, la inspección de estructuras nanofabricadas a gran escala, como las obleas semiconductoras, requiere imágenes de resolución espacial a nanoescala de una muestra estática de cientos de centímetros cuadrados con alta productividad. Los AFM convencionales utilizan una sola sonda en voladizo pasivo con un sistema de desviación de haz óptico, que solo puede recopilar un píxel a la vez durante la obtención de imágenes AFM, lo que da como resultado un bajo rendimiento de imágenes. Este trabajo utiliza una serie de voladizos activos con sensores piezorresistivos integrados y actuadores termomecánicos, lo que permite el funcionamiento simultáneo de varios voladizos en paralelo para aumentar el rendimiento de las imágenes. Cuando se combina con nanoposicionadores de gran alcance y algoritmos de control adecuados, cada voladizo se puede controlar individualmente para capturar múltiples imágenes AFM. Con los algoritmos de posprocesamiento basados en datos, las imágenes se pueden unir y la detección de defectos se puede realizar comparándolas con la geometría deseada. Este documento presenta los principios del AFM personalizado utilizando las matrices en voladizo activas, seguido de una discusión sobre consideraciones de experimentos prácticos para aplicaciones de inspección. Las imágenes de ejemplo seleccionadas de la rejilla de calibración de silicio, el grafito pirolítico altamente orientado y las máscaras de litografía ultravioleta extrema se capturan utilizando una matriz de cuatro voladizos activos (“Quattro”) con una distancia de separación de punta de 125 μm. Con una mayor integración de ingeniería, esta herramienta de procesamiento de imágenes de alto rendimiento y gran escala puede proporcionar datos metrológicos en 3D para máscaras ultravioleta extrema (EUV), inspección de planarización mecánica química (CMP), análisis de fallas, pantallas, mediciones de pasos de película delgada, troqueles de medición de rugosidad y ranuras de sellado de gas seco grabadas con láser.

Introduction

Los microscopios de fuerza atómica (AFM) pueden capturar imágenes topográficas en 3D con resolución espacial a nanoescala. Los investigadores han ampliado la capacidad de los AFM para crear mapas de propiedades de muestra en dominios mecánicos, eléctricos, magnéticos, ópticos y térmicos. Mientras tanto, la mejora del rendimiento de las imágenes también ha sido el foco de la investigación para adaptar los AFM a las nuevas necesidades experimentales. Existen principalmente dos dominios de aplicación para la obtención de imágenes de AFM de alto rendimiento: la primera categoría es la obtención de imágenes de alta velocidad de un área pequeña para capturar cambios dinámicos en la muestra debidos a reacciones biológicas o químicas 1,2; La segunda categoría es para la obtención de imágenes a gran escala y de alta resolución espacial de muestras estáticas durante una inspección, que se analiza en detalle en este trabajo. Con el tamaño de los transistores reduciéndose a la nanoescala, la industria de los semiconductores necesita urgentemente AFM de alto rendimiento para inspeccionar dispositivos nanofabricados a escala de oblea con resolución espacial a nanoescala3.

La caracterización de dispositivos nanofabricados en una oblea puede ser un desafío debido a la gran diferencia de escala entre las características de la oblea y el transistor. Los defectos grandes se pueden detectar automáticamente con microscopios ópticos4. Además, los microscopios electrónicos de barrido (SEM) se utilizan ampliamente para la inspección de hasta decenas de nanómetros en 2D5. Para obtener información 3D y una mayor resolución, el AFM es una herramienta más adecuada si se puede mejorar su rendimiento.

Con un rendimiento limitado de la obtención de imágenes, un enfoque consiste en obtener imágenes de áreas de obleas seleccionadas en las que es más probable que se produzcan defectos de nanofabricación6. Esto requeriría un conocimiento previo del proceso de diseño y fabricación. Alternativamente,es posible combinar otras modalidades, como un microscopio óptico o SEM con un AFM para la visión general y el zoom, 7,8. Se necesita un sistema de posicionamiento de amplio rango y alta precisión para alinear correctamente el sistema de coordenadas entre las herramientas de fabricación y caracterización. Además, para realizar esta funcionalidad es necesario un sistema AFM automatizado para obtener imágenes de varias áreas seleccionadas.

Como alternativa, los investigadores han investigado diferentes formas de aumentar la velocidad de escaneo AFM. Dado que habilitar AFM de alto rendimiento es un desafío sistemático de instrumentación de precisión, los investigadores han investigado varios métodos, incluido el uso de sondas AFM más pequeñas, el rediseño de nanoposicionadores de gran ancho de banda 9,10,11,12 y la electrónica de control13, la optimización de modos de operación, algoritmos de control de imágenes14,15,16,17etc. Con estos esfuerzos, la punta relativa efectiva y la velocidad de la muestra se pueden aumentar hasta un máximo de alrededor de decenas de milímetros por segundo para los sistemas AFM de una sola sonda disponibles en el mercado.

Para mejorar aún más el rendimiento de las imágenes, agregar varias sondas para operar en paralelo es una solución natural. Sin embargo, el sistema de deflexión óptica del haz (OBD) utilizado para la detección de deflexión en voladizo es relativamente voluminoso, lo que hace que la adición de múltiples sondas sea relativamente difícil. El control individual de la deflexión en voladizo también puede ser difícil de realizar.

Para superar esta limitación, se prefieren los principios de detección y actuación integrados sin componentes externos voluminosos. Como se detalla en los informes publicados anteriormente18,19, la detección de deflexión con principios piezorresistivos, piezoeléctricos y optomecánicos puede considerarse detección integrada, siendo las dos primeras más maduras y fáciles de implementar. Para el accionamiento embebido, se pueden utilizar principios termomecánicos con calentamiento eléctrico o piezoeléctricos. Aunque los principios piezoeléctricos pueden funcionar en un rango de temperatura más amplio hasta entornos criogénicos, solo pueden admitir operaciones AFM en modo de roscado, ya que la deflexión estática no se puede medir debido a la fuga de carga y la actuación estática que sufren de histéresis y fluencia. En trabajos anteriores, se han desarrollado matrices de sondas en voladizo activo que utilizan un sensor piezorresistivo y el sensor piezoeléctrico para la obtención de imágenes de gran alcance20,21, pero no se han ampliado aún más para la obtención de imágenes a gran escala ni se han comercializado. En este trabajo, la combinación de detección piezorresistiva y accionamiento termomecánico se seleccionan como transductores embebidos con capacidad de control de deflexión estática.

En este trabajo, se utiliza una novedosa matriz de voladizos activos paralelos “Quattro”22 como sonda23 para la obtención de imágenes simultáneas utilizando voladizos activos. Para medir la deflexión en voladizo, se nanofabrican sensores piezorresistivos en una configuración de puente de Wheatstone19 en la base de cada microvoladizo para medir la tensión interna, que es linealmente proporcional a la deflexión de la punta del voladizo. Este sensor integrado compacto también puede alcanzar una resolución subnanométrica como el sensor OBD convencional. La ecuación que gobierna la salida de tensión del puente de Wheatstone Uenrespuesta a la fuerza aplicada F o a la deflexión del voladizo z se muestra en la ecuación 119 para un voladizo con longitud L, anchura W y espesor H, coeficiente de sensor piezorresistivo PR y módulo elástico efectivo de la tensión de alimentación del puente en voladizo E Ub.

Equation 1(1)

Como se prefiere el funcionamiento en modo de roscado dinámico/sin contacto para la obtención de imágenes no invasivas para evitar perturbar la muestra, se utiliza un actuador termomecánico hecho de alambres de aluminio en forma de serpentina para calentar el voladizo bimorfo fabricado con materiales de aleación de aluminio/magnesio24, silicio y óxido de silicio. A escala microscópica, la constante de tiempo de los procesos térmicos es mucho menor, y la resonancia en voladizo de decenas a cientos de kilohercios puede excitarse accionando el calentador con una señal eléctrica. La deflexión del extremo libre del voladizo zhcontrolada por la temperatura relativa del calentador ΔT se muestra en la Ecuación 219para la longitud del voladizo L con una constante K, dependiendo del coeficiente térmico de expansión del material bimorfo y del espesor geométrico y del área. Cabe señalar que el ΔT es proporcional a la potencia del calentador P, que es igual al cuadrado de la tensión aplicada V dividida por su resistencia R.

Equation 2(2)

Como beneficio adicional, la deflexión estática también se puede controlar además de la excitación por resonancia. Esta puede ser una capacidad particularmente útil para regular la interacción sonda-muestra de cada voladizo individualmente. Además, se pueden excitar individualmente varios voladizos en el mismo chip base con el actuador termomecánico integrado, lo que es imposible en la excitación por resonancia convencional con ondas acústicas generadas piezoeléctricamente.

Combinando la detección piezorresistiva y el accionamiento termomecánico, la sonda en voladizo activo ha permitido una amplia gama de aplicaciones, incluida la microscopía AF colocada en microscopía SE, la obtención de imágenes en líquido opaco y la litografía de sonda de barrido, con más detalles disponibles en la revisión25. Para fines de inspección de alto rendimiento, la matriz de voladizos activos se crea con un ejemplo representativo de implementación de AFM que involucra cuatro voladizos paralelos, como se muestra en la Figura 1. En el futuro, se desarrollará un sistema a escala industrial utilizando ocho voladizos activos paralelos y decenas de posicionadores28. Para ilustrar la escala con un ejemplo, con una resolución espacial en el plano de 100 nm, la obtención de imágenes de un área de 100 mm por 100 mm daría como resultado más de 106 líneas de escaneo y 1012 píxeles. Con una velocidad de escaneo de 50 mm/s por voladizo, esto requeriría un total de más de 555,6 h de escaneo (23+ días) para un solo voladizo, lo cual es demasiado largo para ser útil en la práctica. Utilizando la tecnología de matriz en voladizo activo con decenas de posicionadores, el tiempo de imagen requerido se puede reducir en alrededor de dos órdenes de magnitud a 5-10 h (menos de medio día) sin comprometer la resolución, que es una escala de tiempo razonable para fines de inspección industrial.

Para capturar imágenes de gran superficie y alta resolución, también se ha actualizado el sistema de nanoposicionamiento. Para obtener imágenes de muestras grandes a escala de oblea, se prefiere escanear la sonda en lugar de la muestra, con el fin de reducir el tamaño de los objetos que se mueven. Con una distancia de separación entre voladizos activos de 125 μm, el escáner cubre un área ligeramente mayor que este rango para que las imágenes de cada voladizo se puedan unir durante el posprocesamiento. Al finalizar un escaneo, el posicionador grueso reposiciona automáticamente la sonda en una nueva área adyacente para continuar con el proceso de obtención de imágenes. Mientras que el actuador termomecánico integrado regula la deflexión de cada voladizo, la deflexión promediada de todos los voladizos paralelos se regula con otro controlador proporcional-integral-derivativo (PID) para ayudar a los voladizos durante el seguimiento de la topografía. El controlador del escáner también garantiza que la flexión de cada voladizo no supere un valor umbral máximo, lo que puede hacer que otras sondas pierdan contacto con la superficie si la variación topográfica es demasiado grande.

El nivel de variación topográfica que se puede rastrear para voladizos en el mismo chip base debe ser limitado, ya que el rango de control de deflexión estática del voladizo es del orden de decenas de micras. En el caso de las obleas semiconductoras, las variaciones de la topografía de la muestra suelen estar en la escala submicrométrica, por lo que no deberían ser un gran problema. Sin embargo, con la adición de más voladizos, la inclinación del plano de muestra con respecto a la línea de voladizos puede convertirse en un problema. En la práctica, ocho voladizos paralelos con espaciamientos cercanos a 1 mm aún permitirían 1° de ángulo de inclinación, mientras que agregar más voladizos puede hacer que el control de inclinación sea más difícil de realizar. Por lo tanto, el uso de múltiples grupos de sondas en voladizo colocadas en escáneres de sonda separados es un esfuerzo continuo para aprovechar plenamente el potencial del principio de la sonda en voladizo activo paralelo.

Después de la recopilación de datos, es necesaria una operación de posprocesamiento para recuperar la información deseada. Por lo general, el proceso implica la eliminación de artefactos de escaneo, la unión de imágenes adyacentes para formar un panorama general y, opcionalmente, la identificación de los defectos de la estructura comparándolos con la geometría deseada mediante algoritmos adecuados26. Vale la pena señalar que la cantidad de datos acumulados puede ser enorme para una amplia gama de imágenes, y también se están desarrollando algoritmos de aprendizaje basados en datos para un procesamiento más eficiente27.

Este artículo ilustra el proceso general de adquisición de imágenes AFM de alta resolución utilizando la matriz de voladizo activo paralelo integrada en un sistema AFM personalizado. La implementación detallada del sistema está disponible en 22,28,29,30, y se está comercializando con el número de modelo que figura en la Tabla de Materiales. Los cuatro voladizos se operaron en modo de roscado excitado por el actuador termomecánico incorporado. Se proporcionan resultados representativos de muestras de calibración, máscaras de nanofabricación y muestras de grafito pirolítico altamente orientado (HOPG) (consulte la Tabla de materiales) para ilustrar la eficacia de esta nueva herramienta AFM para la inspección de grandes áreas.

Protocol

1. Preparación de muestras para inspección a gran escala Prepare la muestra con un tamaño adecuado para el AFM (ver Tabla de Materiales).NOTA: Las muestras en forma de oblea con un diámetro en el plano de 75 mm a 300 mm y una variación de altura esperada fuera del plano inferior a 200 μm pueden caber en la platina de muestra AFM. En este estudio, se utiliza una máscara ultravioleta extrema (EUV) en una oblea de 4 pulgadas (ver Tabla de materiales).</…

Representative Results

Para demostrar la eficacia de las imágenes de largo alcance de AFM utilizando voladizos activos paralelos para la obtención de imágenes topográficas, en la Figura 2 se muestran las imágenes cosidas de una rejilla de calibración, tomadas por cuatro voladizos operados en paralelo. La estructura de calibración de la oblea de silicio tiene características de 45 μm de largo con una altura de 14 nm. Cada voladizo cubre un área de 125 μm por 125 μm, lo que da una imagen panorámica cosi…

Discussion

Como se demuestra en los resultados representativos, se puede utilizar una matriz de voladizo activa para capturar varias imágenes de una muestra estática en paralelo. Esta configuración escalable puede mejorar significativamente el rendimiento de imágenes de muestras de gran área, lo que la hace adecuada para inspeccionar dispositivos nanofabricados en obleas semiconductoras. La técnica tampoco se limita a las estructuras hechas por el hombre; Siempre que la variación topográfica dentro de un grupo de voladizos …

Disclosures

The authors have nothing to disclose.

Acknowledgements

Los autores Ivo W. Rangelow y Thomas Sattel desean agradecer al Ministerio Federal de Educación e Investigación de Alemania (BMBF) y al Ministerio Federal de Economía y Acción Climática de Alemania (BMWK) por apoyar partes de los métodos presentados mediante la financiación de los proyectos FKZ:13N16580 “Sondas activas con punta de diamante para metrología cuántica y nanofabricación” dentro de la línea de investigación KMU-innovativ: Fotónica y Tecnologías Cuánticas y KK5007912DF1 “Nano-Posicionador-Escáner Conjungate para tareas metrológicas rápidas y grandes en Microscopía de Fuerza Atómica” dentro de la línea de financiación Programa Central de Innovación para la pequeña y mediana industria (ZIM). Parte del trabajo que aquí se presenta fue financiado por el Séptimo Programa Marco de la Unión Europea FP7/2007-2013 en virtud del Acuerdo de Subvención Nº 318804 “Fabricación de un solo nanómetro: más allá de CMOS”. Los autores Ivo W. Rangelow y Eberhard Manske agradecen el apoyo de la Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) en el marco del Grupo de Formación en Investigación “Tip- and laser-based 3D-Nanofabrication in extended macroscopic working areas” (GRK 2182) en la Technische Universität Ilmenau, Alemania.

Materials

Active-Cantilever  nano analytik GmbH AC-10-2012 AFM Probe
E-Beam EBX-30, INC 012323-15 Mask patterning instrument
Highly Oriented Pyrolytic Graphite – HOPG TED PELLA, INC 626-10 AFM calibration sample
Mask Sample Nanda Technologies GmbH Test substrate EUV Mask Sample substrate
NANO-COMPAS-PRO  nano analytik GmbH 23-2016 AFM Software
nanoMetronom 20 nano analytik GmbH 1-343-2020 AFM Instrument

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Xia, F., Youcef-Toumi, K., Sattel, T., Manske, E., Rangelow, I. W. Active Probe Atomic Force Microscopy with Quattro-Parallel Cantilever Arrays for High-Throughput Large-Scale Sample Inspection. J. Vis. Exp. (196), e65210, doi:10.3791/65210 (2023).

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