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Nanoimimpressão eletroquímica assistida por metais de wafers de silício poroso e sólido
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Metal-Assisted Electrochemical Nanoimprinting of Porous and Solid Silicon Wafers

Nanoimimpressão eletroquímica assistida por metais de wafers de silício poroso e sólido

DOI:
10.3791/61040-v

•

09:18 min

•

February 08, 2022

•

, , ,
1The Polytechnic School,Arizona State University

Capítulos

  • 00:05Introduction
  • 01:19Mac-imprint Stamp Preparation
  • 02:43Photoresist Ultraviolet (UV) Nanoimprinting
  • 04:05Gold and Silver/Gold Catalyst Thin Film Deposition
  • 05:17Silver/Gold Catalyst Thin Film Dealloying
  • 06:01Mac-imprint Operation
  • 07:33Results: Representative Au Porous Stamp and Si Mac-imprint Imaging
  • 08:31Conclusion

Summary

Tadução automática

Tadução automática

Um protocolo para impressão química assistida por metais de recursos de microescala 3D com precisão de forma abaixo de 20 nm em wafers de silício sólidos e porosos é apresentado.

Tags

Metal-assisted Electrochemical NanoimprintingPorous SiliconSolid SiliconHierarchical MicrostructuresMetasurface-based Microoptic ElementsWaveguide TechnologiesOptical BiosensorsInfrared Optical DevicesIII-V SemiconductorsStamp To Substrate Tip And Tilt AlignmentRCA-1 SolutionPFOCSPDMSUV Nanoimprinting

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