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बलि का उपयोग नैनोकणों ई-बीम लिथोग्राफी द्वारा गढ़े संपर्क छेद में शॉट-शोर के प्रभाव को दूर करने के लिए
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बलि का उपयोग नैनोकणों ई-बीम लिथोग्राफी द्वारा गढ़े संपर्क छेद में शॉट-शोर के प्रभाव को दूर करने के लिए
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07:47 min
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February 12, 2017
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Rananavare, S. B., Morakinyo, M. K. Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography. J. Vis. Exp. (120), e54551, doi:10.3791/54551 (2017).
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