/
/
Micropunching Litografi for generering Micro-og submikron-mønstre på Polymer Underlag
É necessária uma assinatura da JoVE para visualizar este conteúdo. Faça login ou comece sua avaliação gratuita.
Capítulos
- 00:05Título
- 01:05Cutting Operation in MPL: Overview and Initial Steps
- 01:57Cutting Operation in MPL: Single-layer Microstructures on a Substrate
- 02:36Cutting Operation in MPL: Multi-layer Microstructures on a Substrate
- 04:44Drawing Operation in MPL: Making PDMS Micropillars on HDPE Channel Sidewalls
- 06:25Microstructures Formed by Cutting and Drawing, and Their Application
- 09:00Conclusion
En micropunching litografi tilnærming er utviklet for å generere mikro-og submikron-mønstre på toppen, sideveggen og bunn overflater av polymer underlag. Det overvinner hindringer av mønster gjennomføre polymerer og generere sidevegger mønstre. Denne metoden gir rask fabrikasjon av flere funksjoner og er fri for aggressiv kjemi.
Tags
Micropunching LithographyGenerating Micro- And Submicron-patternsPolymer SubstratesConducting PolymersLithographic TechniquesTechnical ChallengesPhotolithographic MethodsWet EtchingDry EtchingMicro/nanosystemsPlanar FormSidewall Patterns3-D CircuitsFluidic ChannelsHorizontal Growth Of Nanowires And NanotubesMacropunching Method
