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반응성 스퍼터링에 의해 증착된 니오비움 옥사이드 필름: 산소 유량의 효과
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Niobium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering: Effect of Oxygen Flow Rate
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반응성 스퍼터링에 의해 증착된 니오비움 옥사이드 필름: 산소 유량의 효과
DOI:
10.3791/59929-v
•
08:23 min
•
September 28, 2019
•
Silvia L. Fernandes
,
Lucas J. Affonço
,
Roberto A. R. Junior
,
José H. D. da Silva
,
Elson Longo
,
Carlos F. de O. Graeff
1
Chemistry Department
,
Federal University of São Carlos (UFSCAR)
,
2
Physics Department, School of Sciences
,
São Paulo State University (UNESP)
Chapters
00:04
Title
00:47
Niobium Oxide Film Deposition
03:55
Solar Cell Construction
05:46
Results: The Effects of Oxygen Flow Rates on Reactive Sputtering
07:23
Conclusion
Summary
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여기서, 우리는 페로브스카이트 태양전지에서 전자 수송층으로서 사용하기 위해 상이한 산소 유량으로 반응성 스퍼터링에 의한 산화질소 필름 증착에 대한 프로토콜을 제시한다.
Tags
Reactive Sputtering
Niobium Oxide Films
Oxygen Flow Rate
Thin Film Deposition
Substrate Preparation
Sputtering Process Parameters
Film Thickness
Plasma Cleaning
Impedance Matching
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