This content is Free Access.
Atomically definierade mallar för epitaxiell tillväxt av Complex Oxide Thin Films
Chapters
- 00:05Title
- 01:15Atomically Smooth, Singly Terminated Dysprosium Scandate Surfaces
- 03:46Seed Layers of Nanosheets on Arbitrary Substrates
- 06:43Results: Characterization of the Templates
- 08:21Conclusion
Olika rutiner beskrivs förbereda Atomically definierade mallar för epitaxiell tillväxt komplexa oxid tunna filmer. Kemiska behandlingar av enkristallint SrTiOa 3 (001) och DyScO 3 (110) substrat utfördes för att erhålla Atomically släta, ensamstående avslutade ytor. Ca 2 Nb 3 O 10 - nanosheets användes för att skapa Atomically definierade mallar på godtyckliga substrat.
Tags
Epitaxial GrowthComplex Oxide Thin FilmsAtomically Defined Substrate SurfacesSrTiO3 (001)DyScO3 (110)Wet EtchingAnnealingSingle Terminated SurfacesHeteroepitaxial GrowthPerovskite Oxide Thin FilmsLangmuir-Blodgett DepositionNanosheetsCa2Nb3O10- NanosheetsLayered Parent Compound HCa2Nb3O10Seed LayersArbitrary Substrates
