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Templates atomicamente definidos para crescimento epitaxial do Complexo Óxido Filmes Finos
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December 04, 2014
DOI:
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Vários procedimentos estão descritos para preparar modelos atomicamente definidas para o crescimento epitaxial de óxido complexo de filmes finos. Os tratamentos químicos de único SrTiO cristalino 3 (001) e DyScO 3 (110) substratos foram realizados para obter individuais superfícies suaves atomicamente, terminadas. Ca 2 Nb 3 O 10 - nanofolhas foram usadas para criar templates atomicamente definidos em substratos arbitrárias.
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Epitaxial GrowthComplex Oxide Thin FilmsAtomically Defined Substrate SurfacesSrTiO3 (001)DyScO3 (110)Wet EtchingAnnealingSingle Terminated SurfacesHeteroepitaxial GrowthPerovskite Oxide Thin FilmsLangmuir-Blodgett DepositionNanosheetsCa2Nb3O10- NanosheetsLayered Parent Compound HCa2Nb3O10Seed LayersArbitrary Substrates
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Dral, A. P., Dubbink, D., Nijland, M., ten Elshof, J. E., Rijnders, G., Koster, G. Atomically Defined Templates for Epitaxial Growth of Complex Oxide Thin Films. J. Vis. Exp. (94), e52209, doi:10.3791/52209 (2014).
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