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Micropunching litografía para la generación de microempresas y patrones de submicrónicas de sustratos poliméricos
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Micropunching litografía para la generación de microempresas y patrones de submicrónicas de sustratos poliméricos
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July 02, 2012
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Un enfoque litografía micropunching se ha desarrollado para generar micro y submicrónicas patrones de en la parte superior, lateral y las superficies inferiores de substratos de polímeros. Supera los obstáculos de los patrones de polímeros conductores y la generación de los patrones de las paredes laterales. Este método permite una fabricación rápida de características múltiples y está libre de la química agresiva.
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Micropunching LithographyGenerating Micro- And Submicron-patternsPolymer SubstratesConducting PolymersLithographic TechniquesTechnical ChallengesPhotolithographic MethodsWet EtchingDry EtchingMicro/nanosystemsPlanar FormSidewall Patterns3-D CircuitsFluidic ChannelsHorizontal Growth Of Nanowires And NanotubesMacropunching Method
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Chakraborty, A., Liu, X., Luo, C. Micropunching Lithography for Generating Micro- and Submicron-patterns on Polymer Substrates. J. Vis. Exp. (65), e3725, doi:10.3791/3725 (2012).
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