Journal
/
/
झरझरा और ठोस सिलिकॉन वेफर्स की धातु-सहायता प्राप्त इलेक्ट्रोकेमिकल नैनोइम्प्रिंटिंग
JoVE Journal
Ingenieurwesen
Zum Anzeigen dieser Inhalte ist ein JoVE-Abonnement erforderlich.  Melden Sie sich an oder starten Sie Ihre kostenlose Testversion.
JoVE Journal Ingenieurwesen
Metal-Assisted Electrochemical Nanoimprinting of Porous and Solid Silicon Wafers
DOI:

09:18 min

February 08, 2022

, , ,

Kapitel

  • 00:05Introduction
  • 01:19Mac-imprint Stamp Preparation
  • 02:43Photoresist Ultraviolet (UV) Nanoimprinting
  • 04:05Gold and Silver/Gold Catalyst Thin Film Deposition
  • 05:17Silver/Gold Catalyst Thin Film Dealloying
  • 06:01Mac-imprint Operation
  • 07:33Results: Representative Au Porous Stamp and Si Mac-imprint Imaging
  • 08:31Conclusion

Summary

Automatische Übersetzung

ठोस और झरझरा सिलिकॉन वेफर्स में उप-20 एनएम आकार सटीकता के साथ 3 डी माइक्रोस्केल सुविधाओं के धातु-सहायता प्राप्त रासायनिक छाप के लिए एक प्रोटोकॉल प्रस्तुत किया गया है।

Verwandte Videos

Read Article