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07:36 min
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May 13, 2013
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La fabrication des adressable électriquement, à rapport de côté élevé (> 1000:1) nanofils métalliques séparées par des intervalles de nanomètres en utilisant soit des simples couches sacrificielles de l'aluminium et de l'argent ou de monocouches auto-assemblées sous forme de modèles est décrite. Ces structures de nanogap sont fabriqués sans une salle blanche ou tous les processus lithographiques photo ou faisceau d'électrons par une forme de lithographie de pointe appelée nanoskiving.
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Pourhossein, P., Chiechi, R. C. Fabricating Nanogaps by Nanoskiving. J. Vis. Exp. (75), e50406, doi:10.3791/50406 (2013).
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