/
/
Functionalization حجرية ناعمة وخالية من الزخرفة أوكسيد السيليكون والجرمانيوم
This content is Free Access.
14,504 Views
•
12:38 min
•
December 16, 2011
DOI:
Summary
Automatically generated
نحن هنا وصف طريقة بسيطة لfunctionalization الزخرفة السيليكون والجرمانيوم مع monolayers التفاعل العضوي والتظاهر أكسيد خالية من ركائز منقوشة مع الجزيئات الصغيرة والبروتينات. نهج يحمي الأسطح تماما من أكسدة المواد الكيميائية ، ويوفر دقة السيطرة على التشكل الميزة ، ويوفر سهولة الوصول إلى أنماط التمييز كيميائيا.
Explore More Videos
Soft Lithographic FunctionalizationPatterningOxide-free SiliconGermaniumHybrid Electronic Devices(bio)organic MaterialsInorganic SemiconductorsStable InterfaceElectron TransportOxidative DegradationSelf-assembled MonolayersAlkyl ChainsImpervious BarriersTraditional Patterning TechniquesImmobilizing Organic Molecular SystemsOptical FunctionElectronic FunctionMechanical FunctionChemical ActivityBiological ActivityMicrocontact PrintingNoble Metal SurfacesPattern TransferOxide-free Silicon And Germanium SubstratesInk DiffusionResolution Limit
Read Article
Cite this Article
Bowers, C. M., Toone, E. J., Clark, R. L., Shestopalov, A. A. Soft Lithographic Functionalization and Patterning Oxide-free Silicon and Germanium. J. Vis. Exp. (58), e3478, doi:10.3791/3478 (2011).
Copy