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液体環境におけるパルスUVレーザー照射によるシリコン表面の濡れ性の選択エリア変更
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Selective Area Modification of Silicon Surface Wettability by Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment
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液体環境におけるパルスUVレーザー照射によるシリコン表面の濡れ性の選択エリア変更

DOI:
10.3791/52720-v

•

08:48 min

•

November 09, 2015

•

, ,
1Laboratory for Quantum Semiconductors and Photon-based BioNanotechnology, Interdisciplinary Institute for Technological Innovation, Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes (LN2)- CNRS UMI-3463, Faculty of Engineering,Université de Sherbrooke

'Bölümler'

  • 00:05'Başlık'
  • 01:24Sample Preparation
  • 02:16Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment
  • 03:18Immobilization of Bio-conjugated Nanospheres
  • 03:56Contact Angle Measurement
  • 05:05XPS Measurement
  • 05:52Results: Pulsed UV Laser Irradiation Increases SiOH Surface Concentration
  • 07:10Conclusion

Özet

'Otomatik Çeviri'

'Otomatik Çeviri'

我々は、H 2 O 2 / H 2 O溶液（0.01％-0.5％）またはメタノール溶液で満たされたマイクロ流体チャンバ内でサンプルを照射することにより、親水性又は疎水性の状態にするのSi（001）表面を処理されたHF の現場変更でのプロセスについて報告相対的な低パルスフルエンスのパルスUVレーザーを使用して。

'Etiketler'

Silicon Surface WettabilityPulsed UV Laser IrradiationLiquid EnvironmentSuperhydrophilicHydrophobicSurface FunctionalizationBiosensingOH-terminated SiSi-OCH3 Compounds

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'ÇALMA LİSTESİNE EKLE'

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