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Películas de óxido de niobio depositadas por sputtering reactivo: efecto de la tasa de flujo de oxígeno
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Niobium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering: Effect of Oxygen Flow Rate
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Películas de óxido de niobio depositadas por sputtering reactivo: efecto de la tasa de flujo de oxígeno

DOI:
10.3791/59929-v

•

08:23 min

•

September 28, 2019

•

, , , , ,
1Chemistry Department,Federal University of São Carlos (UFSCAR), 2Physics Department, School of Sciences,São Paulo State University (UNESP)

Capítulos

  • 00:04Título
  • 00:47Niobium Oxide Film Deposition
  • 03:55Solar Cell Construction
  • 05:46Results: The Effects of Oxygen Flow Rates on Reactive Sputtering
  • 07:23Conclusion

Summary

Tadução automática

Tadução automática

Aquí, presentamos un protocolo para la deposición de películas de óxido de niobio mediante sputtering reactivo con diferentes caudales de oxígeno para su uso como capa de transporte de electrones en células solares de perovskita.

Tags

Reactive SputteringNiobium Oxide FilmsOxygen Flow RateThin Film DepositionSubstrate PreparationSputtering Process ParametersFilm ThicknessPlasma CleaningImpedance Matching

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