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Deposição de camada atômica de dióxido de vanádio e um modelo ótico de temperatura-dependente
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Atomic Layer Deposition of Vanadium Dioxide and a Temperature-dependent Optical Model

Deposição de camada atômica de dióxido de vanádio e um modelo ótico de temperatura-dependente

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11:10 min

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May 23, 2018

DOI:

10.3791/57103-v

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10.3791/57103-v

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11:10 min
May 23, 2018

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1Naval Research Laboratory

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Filmes finos (100-1000 Å) de dióxido de vanádio (VO2) foram criados pela deposição de camada atômica (ALD) em substratos de safira. A seguir, as propriedades ópticas foram caracterizadas através da transição metal-isolante de VO2. Propriedades ópticas da medido, um modelo foi criado para descrever o índice de refração sintonizável de VO2.

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Atomic Layer DepositionVanadium DioxideTemperature-dependent Optical ModelPhase Change MaterialsThin Film DepositionSapphire SubstrateOzoneTEMAVMetal-insulator TransitionRefractive IndexAnnealingUltra-high Vacuum

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Currie, M., Mastro, M. A., Wheeler, V. D. Atomic Layer Deposition of Vanadium Dioxide and a Temperature-dependent Optical Model. J. Vis. Exp. (135), e57103, doi:10.3791/57103 (2018).

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