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화학
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任意基底上共轭聚合物薄膜的反应气相沉积
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화학
Reactive Vapor Deposition of Conjugated Polymer Films on Arbitrary Substrates
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任意基底上共轭聚合物薄膜的反应气相沉积
DOI:
10.3791/56775-v
•
07:32 min
•
January 17, 2018
•
Nongyi Cheng
2
,
Trisha L. Andrew
3
1
Department of Chemistry
,
University of Wisconsin-Madison
,
2
Department of Chemistry
,
University of Massachusetts Amherst
,
3
Department of Polymer Science and Engineering
,
University of Massachusetts Amherst
Chapters
00:05
Title
00:41
Deposition of CI-PProDOT (Poly(3,4-propylenedioxythiophene)) Using Solid FeCl
3
as an Oxidant
03:40
Deposition of Br-PEDOT (Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)) Using Liquid Br
2
as an Oxidant
05:42
Results: Characteristics of CI-PproDOT, CI-PTT, and Br-PEDOT Films
07:06
Conclusion
Summary
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本文介绍了在玻片和粗糙衬底上的聚 (34-吩)、聚 (34-propylenedioxythiophene) 和聚 (2,3-c [32-
b
] 噻吩) 薄膜的活性气相沉积的协议, 如纺织品和纸张。
Tags
Reactive Vapor Deposition
Conjugated Polymer Films
Unconventional Substrates
Textile Electronics
ProDOT
Iron 3 Chloride
Oxidant Heating
Vacuum Deposition
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