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誘電泳動の流れ支援: 高性能低温硬化型ナノワイヤ デバイス作製のための低コストの方法
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Flow-assisted Dielectrophoresis: A Low Cost Method for the Fabrication of High Performance Solution-processable Nanowire Devices
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誘電泳動の流れ支援: 高性能低温硬化型ナノワイヤ デバイス作製のための低コストの方法
DOI:
10.3791/56408-v
•
09:14 min
•
December 07, 2017
•
Kaspar Snashall
,
Marios Constantinou
,
Maxim Shkunov
1
Advanced Technology Institute, Electrical and Electronic Engineering
,
University of Surrey
Chapters
00:05
Title
00:56
Preparation of Substrates
02:03
Photolithography Bilayer Process for Contacts
04:04
Deposition of Metal Contacts
04:59
Flow-assisted Dielectrophoresis of Nanowires
06:48
Results: I-V Characteristics of a Silicon Nanowire Field Effect Transistor Mode Using Flow-aasisted Dielectrophoresis
08:05
Conclusion
Summary
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本稿のアシストの誘電泳動を示したフローで、自己組織化ナノワイヤ デバイス。シリコン ナノワイヤ電界効果トランジスタの作製は、例として表示されます。
Tags
Flow-assisted Dielectrophoresis
Solution-processable Nanowire Devices
Semiconductor Nanowires
Nanowire Alignment
Nanowire Selection
Nanomaterial Self-assembly
Solution-based Device Fabrication
Semiconductor Devices
Nanofabrication
Scalable Nanowire Device Manufacturing
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