ジャーナル
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Musterbildung auf Photolithographische Definierte Parylene-C: SiO<sub> 2</sub> Substrate
JoVE Journal
生物工学
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JoVE Journal 生物工学
Cell Patterning on Photolithographically Defined Parylene-C: SiO2 Substrates

Musterbildung auf Photolithographische Definierte Parylene-C: SiO<sub> 2</sub> Substrate

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07:19 min

March 07, 2014

DOI:

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March 07, 2014

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概要

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Dieses Protokoll beschreibt eine Mikro-kompatible Methode zur Zellstrukturierung auf SiO 2. Eine vordefinierte Parylene-C Design ist fotolithographisch auf SiO 2-Wafer gedruckt. Nach der Inkubation mit Serum (oder andere Aktivierungslösung) Zellen anhaften speziell auf (und wachsen nach der Konformität) zugrunde liegenden Parylene-C, und dabei von SiO 2-Regionen zurückgeschlagen.

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