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章
- 00:05標題
- 01:13Preparation of a Block for Sectioning: Self-assembled Monolayers
- 04:12Sectioning to Produce Nanogap Structures
- 05:35Preparation for Electrical Measurements of Self-assembled Monolayer Samples
- 06:00Results: Images and Electrical Measurements for Nanogaps below 5 nm
- 07:15Conclusion
La fabbricazione di elettricamente indirizzabili,-aspect-ratio elevato (> 1000:1) nanofili metallici separati da spazi vuoti delle singole nanometri utilizzando sia strati sacrificali di alluminio e argento o monostrati auto-assemblati come modelli è descritta. Queste strutture nanogap sono fabbricati senza una camera pulita o una foto-o fasci elettronici litografiche processi da una forma di spigolo litografia conosciuta come nanoskiving.
