/
/
Атомно-слоевое осаждение диоксид ванадия и температур зависимая оптические модели
This content is Free Access.
Атомно-слоевое осаждение диоксид ванадия и температур зависимая оптические модели
Chapitres
- 00:04Titre
- 00:56Atomic Layer Deposition (ALD) of Amorphous Vanadium Dioxide (VO2 ) on Sapphire Substrates
- 03:06Annealing Amorphous VO2 Thin Films
- 04:45Characterization of VO2 Films by Raman Spectroscopy
- 05:43Characterization of VO2 Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
- 07:31Morphological Characterization by Atomic Force Microscopy (AFM)
- 09:06Results: Characterization of Amorphousand Crystalline VO2 Films
- 10:49Conclusion
Тонких пленок (100-1000 Å) диоксид ванадия (VO2) были созданы атомно слоевого осаждения (МОП) на подложках сапфира. После этого оптические свойства были охарактеризованы через переходный металл диэлектрик VO2. От измеряемых оптических свойств для описания настраиваемых преломления VO2была создана модель.
