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Micropunching Lithography for Generating Micro- and Submicron-patterns on Polymer Substrates

Micropunching Litografia de Geração de Micro e submicrométricas-padrões sobre substratos poliméricos

DOI:
10.3791/3725-v

•

09:24 min

•

July 02, 2012

•

, ,
1Mechanical and Aerospace Engineering,University of Texas at Arlington

Kapitel

  • 00:05Titel
  • 01:05Cutting Operation in MPL: Overview and Initial Steps
  • 01:57Cutting Operation in MPL: Single-layer Microstructures on a Substrate
  • 02:36Cutting Operation in MPL: Multi-layer Microstructures on a Substrate
  • 04:44Drawing Operation in MPL: Making PDMS Micropillars on HDPE Channel Sidewalls
  • 06:25Microstructures Formed by Cutting and Drawing, and Their Application
  • 09:00Conclusion

Summary

Automatische Übersetzung

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Uma abordagem litografia micropunching é desenvolvido para gerar micro e submicron-padrões na parte superior, lateral e superfícies inferiores de polímero substratos. Ela supera os obstáculos da padronização polímeros condutores e gerar padrões de paredes laterais. Este método permite a fabricação rápida de várias características e é livre de química agressiva.

Tags

Micropunching LithographyGenerating Micro- And Submicron-patternsPolymer SubstratesConducting PolymersLithographic TechniquesTechnical ChallengesPhotolithographic MethodsWet EtchingDry EtchingMicro/nanosystemsPlanar FormSidewall Patterns3-D CircuitsFluidic ChannelsHorizontal Growth Of Nanowires And NanotubesMacropunching Method

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