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Micropunching Lithography for Generating Micro- and Submicron-patterns on Polymer Substrates
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Micropunching litografia per la generazione di Micro-e submicroniche modelli sul Polymer Substrati

DOI:
10.3791/3725-v

•

09:24 min

•

July 02, 2012

•

, ,
1Mechanical and Aerospace Engineering,University of Texas at Arlington

Kapitel

  • 00:05Titel
  • 01:05Cutting Operation in MPL: Overview and Initial Steps
  • 01:57Cutting Operation in MPL: Single-layer Microstructures on a Substrate
  • 02:36Cutting Operation in MPL: Multi-layer Microstructures on a Substrate
  • 04:44Drawing Operation in MPL: Making PDMS Micropillars on HDPE Channel Sidewalls
  • 06:25Microstructures Formed by Cutting and Drawing, and Their Application
  • 09:00Conclusion

Summary

Automatische Übersetzung

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Un approccio litografia micropunching è sviluppato per generare micro-e submicroniche modelli sopra, fianchi e superfici di fondo di polimero substrati. Esso supera gli ostacoli patterning di polimeri conduttori e generare modelli laterali. Questo metodo permette una rapida realizzazione di funzioni multiple ed è libero di chimica aggressiva.

Tags

Micropunching LithographyGenerating Micro- And Submicron-patternsPolymer SubstratesConducting PolymersLithographic TechniquesTechnical ChallengesPhotolithographic MethodsWet EtchingDry EtchingMicro/nanosystemsPlanar FormSidewall Patterns3-D CircuitsFluidic ChannelsHorizontal Growth Of Nanowires And NanotubesMacropunching Method

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