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化学
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二次イオン質量分析を用いた分離不純物の3D深さプロファイル再構成(英語)
JoVE 杂志
化学
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化学
3D Depth Profile Reconstruction of Segregated Impurities Using Secondary Ion Mass Spectrometry
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二次イオン質量分析を用いた分離不純物の3D深さプロファイル再構成(英語)
DOI:
10.3791/61065-v
•
07:10 min
•
April 29, 2020
•
Paweł Piotr Michałowski
,
Sebastian Zlotnik
,
Iwona Jóźwik
,
Adrianna Chamryga
,
Mariusz Rudziński
1
Łukasiewicz Research Network-Institute of Electronic Materials Technology
Chapters
00:00
Introduction
00:57
Defect Selective Etching
02:09
Scanning Electron Microscopy
02:50
Secondary Ion Mass Spectrometry
05:34
Results: Oxygen Counts in a Cuboid
06:29
Conclusion
Summary
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提示された方法では、二次イオン質量分析に関連する測定アーチファクトを特定して解決する方法と、固体材料中の不純物/ドーパントの現実的な3D分布を取得する方法について説明します。
Tags
Keywords: 3D Depth Profile
Segregated Impurities
Secondary Ion Mass Spectrometry
Semiconductor Technology
Structural Defects
Eutectic Mixture
Defect-selective Etching
Gallium Nitride
Scanning Electron Microscopy
SIMS Calibration
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