Journal
/
/
النانو الغطاسي α كوارتز أفلام على السيليكون: من المواد إلى أجهزة جديدة
JoVE Journal
Engineering
A subscription to JoVE is required to view this content.  Sign in or start your free trial.
JoVE Journal Engineering
Epitaxial Nanostructured α-Quartz Films on Silicon: From the Material to New Devices
DOI:

11:34 min

October 06, 2020

, , , ,

Chapters

  • 00:05Introduction
  • 00:54Preparation of PDMS Templates and Gel Film Deposition on SOI Substrates by Dip-Coating
  • 02:55Surface Micro/Nanostructuration by Soft Imprint Lithography and Gel Film Crystallization by Thermal Treatment
  • 04:00Preparing and Patterning of the Quartz Samples for the Cantilever Microfabrication Process
  • 08:49Results: Qualitative Analysis of the Progressive Epitaxial Nanostructured α-Quartz Film Thickness Developed on Silicon
  • 10:20Conclusion

Summary

Automatic Translation

يقدم هذا العمل بروتوكولًا مفصلًا للتكبير المجهري للمواد النانوية α الكوارتز على طبقة تكنولوجيا السيليكون أون عازل (SOI) بدءًا من النمو الإكسي للفيلم الكوارتز مع طريقة طلاء الانخفاض ثم إعادة تخطيط النانو للفيلم الرقيق عبر الطباعة الحجرية النانوية.

Related Videos

Read Article