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Polykristalline Silizium-Dünnschicht-Solarzellen mit Plasmonische-enhanced Light-Trapping
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09:32 min
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July 02, 2012
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Polykristalline Silizium-Dünnschicht-Solarzellen auf Glas werden durch Ablagerung von Bor und Phosphor dotierten Silizium-Schichten durch Kristallisation, Defekt Passivierung und Metallisierung gefolgt hergestellt. Plasmonische Licht-Trapping wird durch Bildung Ag-Nanopartikel auf dem Silizium-Zelloberfläche mit einer diffusen Reflektor was zu ~ 45% Fotostrom Enhancement begrenzt eingeführt.
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Polycrystalline Silicon Thin-film Solar CellsPlasmonic-enhanced Light-trappingCheaper Solar CellsReducing Semiconductor MaterialThin CellsLight-trappingOptical ThicknessTextured SurfacesEvaporated SiliconPlanar DevicesMetal NanoparticlesSurface Plasmon ResonanceFabrication ProcedureQuantum EfficiencyBoron-doped Silicon LayersPhosphorous-doped Silicon LayersGlass SubstrateElectron Beam EvaporationAmorphous FilmCrystallisationElectronic DefectsAnnealingHydrogen PassivationMetal Grid Contacts
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Varlamov, S., Rao, J., Soderstrom, T. Polycrystalline Silicon Thin-film Solar cells with Plasmonic-enhanced Light-trapping. J. Vis. Exp. (65), e4092, doi:10.3791/4092 (2012).
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