合成、結晶化、および 3, 5-ルチジンNの分光学的キャラクタリゼーション-酸化物の脱水

今日では、世界中の科学者に投資しているリソース低反応性フロント付加反応^{1,2に知られている、芳香族グループの機能化の新しい合成ルートの開発 3}。窒素原子は炭素原子を置換、ピリジンはリング³炭素原子のみで構成されるアナログに似たような反応を示し、それは通常追加ではなく、置換の機構を受けます。N-酸化物、窒素および酸素原子³空軌道を持つ窒素の非共有結合電子対の重複によって形成される酸素ドナーの絆の存在によって特徴的な。特に、ピリジンN-酸化物は、ルイス塩基、電子供与体として作用する可能性、N-O 部位と彼らは対応するルイス酸・塩基対を形成するルイス酸と組み合わせることがあります。潜在的な求電子剤に向かってルイス酸の nucleophilicity を増加できることが条件の下で反応させる、通常の反応は発生しませんので、不可欠な化学結果しております。おそらくこのような化合物の最も頻繁に使用は様々 な酸化反応酸化剤⁴として動作です。ピリジンN-酸化物とそのリング官能基化誘導体の多くは生物学的活性や薬理学的エージェント⁵、再発の分子であり、さまざまな分光学的ツールによる明確な空間分布を確立されています。それらのいくつかの^6,7。ピリジン環に異なるグループを関連付けて研究の科学者はイソキサゾリン フォーム 6 – キシレンを沸騰 DBU などベースの触媒量を必要とするので、簡単で従来の方法を生成するさまざまな方法論をテストしています。置換-2-アミノピリジンN-酸化物^8,9。種々 のピリジン誘導体は彼らの対応するNに変えられた-マンガン量を触媒の存在下で酸化物 tetrakis(2,6-diclorophenyl) CH₂Cl₂/CH₃ポルフィリンおよびアンモニウムのアセテートCN^8,10。CH₂Cl_{2 methyltrioxorhenium^8、11、または過剰なジメチルジオキシランの添加による触媒量の存在下で H2O2を使用して酸化物に酸化する他のピリジン}0 の ° C で対応するNにつながる-酸化物^8,12,13,14。ビス (トリメチルシリル) 過酸化 CH₂Cl₂で trioxorhenium の存在下ではピリジンNの合成使用されています-酸化物^8,11。アミノピリジンNの合成-カロの酸 (peroxomonosulfuric 酸) を使用して含むアシル化もされて酸化物報告⁸。それにもかかわらず、ここでは、報告された方法論と落合¹、によって報告された方法論の一部を使用してアクセスできる安価な試薬、H₂O₂氷酢酸の使用で非常に良い結果を提供します。この実習は第三級アミンに作用する大規模な準備での使用に適して、それのみ 30% 過酸化水素が必要な反応で良好な収率と 70 から 80 ° C 間の温度で氷酢酸を生成および浄化プロセスが使用触媒や高価な試薬¹を使用せず、蒸留のようなほとんどの合成実験室で利用可能です。文献は、他の方法論も多く、10-24 h と温度が 100 ° C ^4,8からのタイム フレームと結晶 x 線解析では収量はほとんど報告を報告します。

受身に様々 なn-酸化誘導体、適切に求核または求電子のいずれかの方法でルチジン リングをアクティブに使用されます。求または求電子的要因は、置換基の影響を受けます。主な要因は、電子グループ ピリジン環、求核特性¹となっています。無料のN-酸化化合物は芳香環の非局在電荷による x 線解析に適した結晶としてほとんど分離されます。しかし、溶媒和要因は酸素¹⁵の負の密度を安定させるために重要です。