/
/
Epitaxial nanostrukturerad α-kvartsfilmer på kisel: Från materialet till nya enheter
É necessária uma assinatura da JoVE para visualizar este conteúdo. Faça login ou comece sua avaliação gratuita.
Capítulos
- 00:05Introduction
- 00:54Preparation of PDMS Templates and Gel Film Deposition on SOI Substrates by Dip-Coating
- 02:55Surface Micro/Nanostructuration by Soft Imprint Lithography and Gel Film Crystallization by Thermal Treatment
- 04:00Preparing and Patterning of the Quartz Samples for the Cantilever Microfabrication Process
- 08:49Results: Qualitative Analysis of the Progressive Epitaxial Nanostructured α-Quartz Film Thickness Developed on Silicon
- 10:20Conclusion
Detta arbete presenterar ett detaljerat protokoll för mikrotillverkning av nanostrukturerad α-kvarts cantilever på en Silicon-On-Insulator (SOI) teknik substrat från epitaxial tillväxt av kvartsfilm med dip beläggning metod och sedan nanostructuration av tunnfilmen via nanoimprint litografi.
Tags
EpitaxialNanostructuredAlpha-quartzSiliconQuartz-based SensorsMiniaturizationMonolithic IntegrationChemical IntegrationEpitaxial RequirementsMicrocantileversActive Microelectromechanical SystemLead-free Piezoelectric Oxide MaterialsMass SensitivityPDMSSOI SubstrateDip CoatingGel FilmMicro/nanostructure
