Journal
/
/
النانو الغطاسي α كوارتز أفلام على السيليكون: من المواد إلى أجهزة جديدة
JoVE Journal
Engenharia
É necessária uma assinatura da JoVE para visualizar este conteúdo.  Faça login ou comece sua avaliação gratuita.
JoVE Journal Engenharia
Epitaxial Nanostructured α-Quartz Films on Silicon: From the Material to New Devices
DOI:

11:34 min

October 06, 2020

, , , ,

Capítulos

  • 00:05Introduction
  • 00:54Preparation of PDMS Templates and Gel Film Deposition on SOI Substrates by Dip-Coating
  • 02:55Surface Micro/Nanostructuration by Soft Imprint Lithography and Gel Film Crystallization by Thermal Treatment
  • 04:00Preparing and Patterning of the Quartz Samples for the Cantilever Microfabrication Process
  • 08:49Results: Qualitative Analysis of the Progressive Epitaxial Nanostructured α-Quartz Film Thickness Developed on Silicon
  • 10:20Conclusion

Summary

Tadução automática

يقدم هذا العمل بروتوكولًا مفصلًا للتكبير المجهري للمواد النانوية α الكوارتز على طبقة تكنولوجيا السيليكون أون عازل (SOI) بدءًا من النمو الإكسي للفيلم الكوارتز مع طريقة طلاء الانخفاض ثم إعادة تخطيط النانو للفيلم الرقيق عبر الطباعة الحجرية النانوية.

Vídeos Relacionados

Read Article