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ToF-SIMS 및 XPS 분석을 위한 나노 입자 의 준비
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Preparation of Nanoparticles for ToF-SIMS and XPS Analysis
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ToF-SIMS 및 XPS 분석을 위한 나노 입자 의 준비

DOI:
10.3791/61758-v

•

06:24 min

•

September 13, 2020

•

, , , , , , ,
1Division of Surface Analysis and Interfacial Chemistry,Federal Institute for Material Research and Testing (BAM), 2Department of Chemical and Product Safety,German Federal Institute for Risk Assessment (BfR)

Capítulos

  • 00:05Introduction
  • 00:45Nanoparticle Suspension Preparation, Drop-Dry Deposition, and Spin Coating Deposition
  • 02:24Nanoparticle Powder Deposition
  • 03:15Nanoparticle Suspension Cryofixation
  • 04:06Results: Representative Nanoparticle Preparation for Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry (ToF-SIMS) and X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) Analysis
  • 05:41Conclusion

Summary

Tadução automática

Tadução automática

표면 분석을 위한 나노입자를 준비하기 위한 여러 가지 절차가 제시됩니다(낙하 주조, 스핀 코팅, 분말의 증착 및 극저온). 각 방법의 과제, 기회 및 가능한 응용 프로그램, 특히 서로 다른 준비 방법으로 인한 표면 속성의 변화에 대해 설명합니다.

Tags

NanoparticlesSurface AnalysisToF-SIMSXPSSample PreparationSuspensionDrop Dry MethodSpin CoatingPowder DepositionUV Ozone CleanerVacuumSilicon WaferO-ringMicroscopySEM

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