Journal
/
/
Demonstration av lika intensitet stråle generation av dielektriska Metasurfaces
JoVE Journal
Engenharia
É necessária uma assinatura da JoVE para visualizar este conteúdo.  Faça login ou comece sua avaliação gratuita.
JoVE Journal Engenharia
Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces
DOI:

09:33 min

June 07, 2019

, ,

Capítulos

  • 00:04Título
  • 00:52Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
  • 01:35Formation of the Chromium Etching Mask
  • 06:53Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon
  • 07:41Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent
  • 08:31Conclusion

Summary

Tadução automática

Ett protokoll för tillverkning och optisk karakterisering av dielektriska metasurfaces presenteras. Denna metod kan tillämpas på tillverkning av inte bara balk splitters, men också av allmänna dielektriska metasurfaces, såsom linser, hologram, och optiska kappor.

Vídeos Relacionados

Read Article