Journal
/
/
Демонстрация поколения равной интенсивности луча диэлектрическими метаповерхностями
JoVE Journal
Engenharia
É necessária uma assinatura da JoVE para visualizar este conteúdo.  Faça login ou comece sua avaliação gratuita.
JoVE Journal Engenharia
Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces
DOI:

09:33 min

June 07, 2019

, ,

Capítulos

  • 00:04Título
  • 00:52Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
  • 01:35Formation of the Chromium Etching Mask
  • 06:53Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon
  • 07:41Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent
  • 08:31Conclusion

Summary

Tadução automática

Представлен протокол изготовления и оптической характеристики диэлектрических метаповерхностей. Этот метод может быть применен к изготовлению не только пучковых сплиттеров, но и общих диэлектрических метаповерхностей, таких как линзы, голограммы и оптические плащи.

Vídeos Relacionados

Read Article