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U2O5 filme preparação via UO2 deposição por pulverização catódica de corrente contínua e sucessiva oxidação e redução com o oxigênio e hidrogênio atômico
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U2O5 Film Preparation via UO2 Deposition by Direct Current Sputtering and Successive Oxidation and Reduction with Atomic Oxygen and Atomic Hydrogen

U2O5 filme preparação via UO2 deposição por pulverização catódica de corrente contínua e sucessiva oxidação e redução com o oxigênio e hidrogênio atômico

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12:05 min

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February 21, 2019

DOI:

10.3791/59017-v

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10.3791/59017-v

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February 21, 2019

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1European Commission, Joint Research Centre,Directorate for Nuclear Safety and Security

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U2O5UO2Thin FilmSputteringOxidationReductionAtomic OxygenAtomic HydrogenUranium OxidesSurface CompositionX-ray Photoelectron SpectroscopyNitridesCarbidesUltra-high VacuumSample PreparationGold SubstrateLoading ChamberVacuum System

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Gouder, T., Huber, F., Eloirdi, R., Caciuffo, R. U2O5 Film Preparation via UO2 Deposition by Direct Current Sputtering and Successive Oxidation and Reduction with Atomic Oxygen and Atomic Hydrogen. J. Vis. Exp. (144), e59017, doi:10.3791/59017 (2019).

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