Journal
/
Química
/
يو2س5 إعداد فيلم عن طريق ثالث أكسيد اليورانيوم2 الترسيب بالتيار المباشر اﻷخرق وأكسدة المتعاقبة والحد مع الأكسجين الذري والهيدروجين الذري
JoVE Journal
Química
This content is Free Access.
JoVE Journal Química
U2O5 Film Preparation via UO2 Deposition by Direct Current Sputtering and Successive Oxidation and Reduction with Atomic Oxygen and Atomic Hydrogen
Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.

يو2س5 إعداد فيلم عن طريق ثالث أكسيد اليورانيوم2 الترسيب بالتيار المباشر اﻷخرق وأكسدة المتعاقبة والحد مع الأكسجين الذري والهيدروجين الذري

7,649 Views

•

12:05 min

•

February 21, 2019

DOI:

10.3791/59017-v

DOI:
10.3791/59017-v

•

12:05 min
February 21, 2019

•

3 Views
, , ,
1European Commission, Joint Research Centre,Directorate for Nuclear Safety and Security

Tags

U2O5UO2Thin FilmSputteringOxidationReductionAtomic OxygenAtomic HydrogenUranium OxidesSurface CompositionX-ray Photoelectron SpectroscopyNitridesCarbidesUltra-high VacuumSample PreparationGold SubstrateLoading ChamberVacuum System

Read Article

Cite this Article

Gouder, T., Huber, F., Eloirdi, R., Caciuffo, R. U2O5 Film Preparation via UO2 Deposition by Direct Current Sputtering and Successive Oxidation and Reduction with Atomic Oxygen and Atomic Hydrogen. J. Vis. Exp. (144), e59017, doi:10.3791/59017 (2019).

Download .ris file

Copy

Share Video

.

Copy